上海东昇新能源电子回收公司

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上海东昇新能源电子回收公司长期致力于工厂和个人库存硅片回收,碎硅片,单晶硅回收,复晶硅,多晶硅,硅料,碎硅料,IC级硅片,硅泥,硅粉,碎裸片,原生多晶硅的回收与转售业务，完善的评估,采购,物流团队与销售网络,为客户提供快捷,价优,全面的库存处理服务. 
一,实力雄厚,资金充裕,可以一次性现金收购200万以内的库存.
二,全面而专业的评估团队。我们由20多名有数十年经验的评估**构成，无论IC、废料、设备都有专业人员评估，为客户提供一站式服务。
三,快捷的反馈。我们在接到电话的2小时内会给客户回应,并在24小时内报价供客户参考. 四,提供多样化的库存处理解决方案供客户选择.可以统货一次性清仓收购也可以代销.
五, 全面而畅通的渠道及全球化的分支机构.我们在深圳,苏州,**均有设点,可以大陆交货也可以**接货.
六, 一切现金交易,无需售后.选择全部在您,风险全部在我!
七, 为客户保密,我们承诺不泄露客户的任何信息给第三方,
八 ,以合理的价格收购使客户与我们双赢.
九, 我们交易灵活方便,现金支付,价格合理,尽量满足客户的要求,提供一条龙服务
物理名词
测量 物理学 误差 游码 测量
实验 温度计 长度 实验室
摄氏度 单位 面积 千米
平方米 体温计 米 体积
时间 分米 立方米 小时
厘米 升 分钟 毫米
毫升 秒 微米 质量
毫秒 纳米 吨 停表
测量工具 千克 力 刻度尺
克 牛顿 **小刻度 毫克
物理名词
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实验 温度计 长度 实验室
摄氏度 单位 面积 千米
平方米 体温计 米 体积
时间 分米 立方米 小时
厘米 升 分钟 毫米
毫升 秒 微米 质量
毫秒 纳米 吨 停表
测量工具 千克 力 刻度尺
克 牛顿 **小刻度 毫克
测力计 零刻度线 天平 弹簧秤
测量范围 砝码
运动 相对运动 方向 路程 静止
直线运动 速度 参照物 曲线运动
变速直线运动 位置 匀速直线运动 平均速度
热 分子 熔化 液化 分子运动
熔点 升华 扩散 凝固
凝华 排斥力 凝固点 冰箱
吸引力 晶体 热传递 物质
非晶体 热传导 物体 吸收
热对流 状态 放出 热辐射
固体 汽化 热量 液体
蒸发 比热容 气体 沸腾
物态变化 沸点
光 光源 入射角 焦距 光的直线传播
反射角 会聚 小孔成像 镜面反射
发散 日食 漫反射 光屏屏幕
月食 平面镜 照相机 光速
潜望镜 幻灯机 真空 蜡烛
电影放映机 空气 光的折射 放大镜
玻璃 折射光线 倒立的 水
折射角 正立的 均匀介质 透镜
缩小的 光的反射 凸透镜 放大的
反射定律 凹透镜 实像 入射光线
主光轴 虚像 反射光线 光心
海市蜃楼 法线 焦点 光的色散
磁 磁体 小磁针 磁场 天然磁体
磁极 地磁场 人造磁体 电流的磁场
南极 条形磁铁 北极 磁感线
蹄形磁铁 磁化 电磁铁
声音 振动 声波 振幅 介质
音调 噪音 传播 响度
乐音 声速 音色 分贝
回声 频率
力 重力 惯性 动力 重心
平衡 阻力 摩擦力 压强
动力臂 滑动摩擦 帕斯卡 阻力臂
滚动摩擦 液体压强 作用线 静摩擦
大气压强 滑轮 压力 标准大气压
定滑轮 浮力 气压计 动滑轮
力的图示 托里拆利 滑轮组 力的大小
阿基米德原理 功 力的方向 密度
功率 力的作用点 潜水艇 机械效率
合力 热气球 有用功 分力
飞艇 额外功 力的合成 简单机械
总功 形变 杠杆 斜面
牛顿**定律 支点
电 电荷 正极 电压 带电体
负极 伏特 摩擦起电 电路
伏特计 正电荷 通路 电阻
负电荷 开路 欧姆 导体
短路 变阻器 绝缘体 电路图
滑动变阻器 半导体 串联 欧姆定律
电源 并联 电功 导线
电量 电功率 电键 电流
额定电压 干电池 安培 额定电功率
蓄电池 安培计
化学清洗 　化学清洗是为了除去原子、离子不可见的污染,方法较多,有溶剂萃取、酸洗（硫酸、硝酸、王水、各种混合酸等）和等离子体法等。其中双氧水体系清洗方法效果好，环境污染小。一般方法是将硅片先用成分比为H2SO4:H2O2=5:1或4:1的酸性液清洗。清洗液的强氧化性,将有机物分解而除去；用超纯水冲洗后,再用成分比为H2O:H2O2:NH4OH=5:2:1或5:1:1或7:2:1的碱性清洗液清洗,由于H2O2的氧化作用和NH4OH的络合作用，许多金属离子形成稳定的可溶性络合物而溶于水；然后使用成分比为H2O:H2O2:HCL=7:2:1或5:2:1的酸性清洗液，由于H2O2的氧化作用和盐酸的溶解，以及氯离子的络合性，许多金属生成溶于水的络离子，从而达到清洗的目的。

放射示踪原子分析和质谱分析表明，采用双氧水体系清洗硅片效果**，同时所用的全部化学试剂 H2O2、NH4OH、HCl能够完全挥发掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片时，在硅片表面会留下约2×1010原子每平方厘米的硫原子，用后一种酸性清洗液时可以完全被清除。用H2O2体系清洗硅片无残留物，有害性小，也有利于工人健康和环境保护。硅片清洗中用各步清洗液处理后，都要用超纯水**冲洗。